Por métodos de microscopía interferométrica se logra una mayor resolución axial (nanómetros) en la determinación de espesores de películas semitransparentes, el uso de luz policromática como fuente de iluminación y la implementación de un dispositivo que permite controlar la posición de uno de los brazos del interferómetro en dirección paralela al eje óptico con precisión de nanómetros, nos permitió realizar el análisis detallado de la topografía de muestras de SiO₂. Se muestra la técnica utilizada para, a partir del interferograma obtenido, decodificar la información de la topografía de las caras superior e inferior y el espesor de la película con una resolución del orden de los nanómetros. Se da a conocer la implementación desarrollada para ofrecer el servicio de caracterización de superficies.